Micron bu hafta resmi olarak Japonya’nın Hiroşima kentindeki fabrikasını 2025’te aşırı ultraviyole litografi kullanan ilk düğümü olan 1γ (1-gama) işlem teknolojisinde DRAM yongaları üretmek için donatacağını söyledi. Şirket ilk yonga üreticisi olacak Japonya’da seri üretim için EUV’yi kullanma ve Hiroşima ile Tayvan’daki fabrikaları, yakında çıkacak olan 1γ teknolojisini kullanan ilk tesisleri olacak. Aşırı ultraviyole litografiyi…
Micron bu hafta resmi olarak Japonya’nın Hiroşima kentindeki fabrikasını 2025’te aşırı ultraviyole litografi kullanan ilk düğümü olan 1γ (1-gama) işlem teknolojisinde DRAM yongaları üretmek için donatacağını söyledi. Şirket ilk yonga üreticisi olacak Japonya’da seri üretim için EUV’yi kullanma ve Hiroşima ile Tayvan’daki fabrikaları, yakında çıkacak olan 1γ teknolojisini kullanan ilk tesisleri olacak.
Aşırı ultraviyole litografiyi benimsemeyen tek büyük DRAM üreticisi olan Micron, 2024’te 1γ süreciyle (3. Nesil 10nm sınıfı düğümü) bunu kullanmaya başlamayı planladı. planı 2025’e ertelemek. Micron’un 1γ proses teknolojisi, birkaç katman için EUV kullanacak şekilde ayarlandı, ancak bunu kaç katmanın kullanacağını açıklamadı.
Şirketin söylediği şey, 1γ düğümünün dünyanın en küçük bellek hücresini etkinleştireceğidir ki bu, Micron’un rakiplerinin 2025’te nelere sahip olacağını muhtemelen bilemeyeceği gerçeği göz önüne alındığında cesur bir iddiadır.
Geçen yıl 1-gama teknolojisi “verim etkinleştirme” aşamasındaydı, bu da şirketin DRAM örneklerini kapsamlı test ve kalite kontrol prosedürleriyle test ettiği anlamına geliyor. Bu noktada şirket, kusurları tespit etmek için araçlara yenilikçi denetim uygulayabilir ve ardından verimi en üst düzeye çıkarmak için belirli işlem adımlarında (örn. litografi, dağlama) belirli iyileştirmeler yapabilir.
Micron Başkanı ve CEO’su Sanjay Mehrotra, “Micron’un Hiroşima operasyonları, son on yılda bellek için endüstri lideri birkaç teknolojinin geliştirilmesi ve üretilmesinde merkezi bir rol oynadı” dedi. “Japonya’da EUV’yi ilk kullanan olmaktan ve Hiroşima fabrikamızda 1-gama geliştirip üretmekten gurur duyuyoruz.
Micron’un Hiroşima fabrikasında 1 gama düğümünde bellek yongaları üretmek için birim başına yaklaşık 200 milyon dolara mal olan ASML’nin Twinscan NXE tarayıcılarını kurması gerekiyor. Fabrikasını gelişmiş araçlarla donatmak için Micron, geçen Eylül ayında Japon hükümetinden 46,5 milyar Yen (320 milyon $) hibe aldı. Bu arada Micron, ‘Japon hükümetinin yakın desteğiyle önümüzdeki birkaç yıl içinde’ teknolojiye 500 milyar Yen (3.618 milyar $) yatırım yapacağını söylüyor.
METI Ticaret ve Bilgi Politikası Bürosu Genel Müdürü Satoshi Nohara, “Micron, Japonya’da DRAM üreten tek şirkettir ve yalnızca küresel DRAM endüstrisinin değil, gelişen yarı iletken ekosistemimizin hızını belirlemede kritik öneme sahiptir” dedi. “Japon topraklarında tanıtılacak son teknoloji EUV ile Micron ile işbirliğimizin Hiroşima’da kök saldığını görmekten memnuniyet duyuyoruz. Bu, yalnızca yarı iletken ekosistemimizin yetenek ve altyapısını derinleştirip ilerletmekle kalmayacak, aynı zamanda dijital ekonomimiz için üstel büyüme ve fırsatların kilidini açacaktır.”
